期刊：Chem Vapor Depos
| 期刊ISSN | 0948-1907 |
| 期刊全称 | Chemical Vapor Deposition |
| 期刊缩写 | Chem Vapor Depos |
| 影响因子 | 1.333 |
| 自 引 率 | 0.00% |
| SCI 收录情况 | SCI收录; SCIE收录; |
| ESI 学科分类 | 材料科学（Materials Sciences） |
| 中科院大类分区 | 工程技术：3区 |
| 中科院小类分区 | 电化学 4区 材料科学：膜 3区 物理：凝聚态物理 4区 |
| 是否Top期刊 | 否 |
| 是否综述期刊 | 是 |
| 官方网站 | http://onlinelibrary.wiley.com/journal/10.1002/(ISSN)1521-3862 |
| 投稿网站 | |
| 通讯地址 | Wiley-v C H Verlag Gmbh, Po Box 10 11 61, Weinheim, Germany, D-69451 |
| 所属国家 | Germany |
| 出版周期 | Bimonthly |
| 创办年份 | 0年 |
| 年文章数 | 0 |
| 是否开放访问 | 不开放访问 |
| PubMed链接 | http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=0948-1907%5BISSN%5D |
| 平均审稿速度 | 网友分享经验：>12周，或约稿 |
| 平均录用比例 | 网友分享经验：容易 |
| 历年影响因子 |