期刊：J Laser Appl
| 期刊ISSN | 1042-346X |
| 期刊全称 | Journal Of Laser Applications |
| 期刊缩写 | J Laser Appl |
| 影响因子 | 1.492 |
| 自 引 率 | 8.80% |
| SCI 收录情况 | SCIE收录; |
| ESI 学科分类 | 工程科学（Engineering） |
| 中科院大类分区 | 物理：4区 |
| 中科院小类分区 | 材料科学：综合 4区 光学 4区 物理：应用 4区 |
| 是否Top期刊 | 否 |
| 是否综述期刊 | 否 |
| 官方网站 | http://scitation.aip.org/content/lia/journal/jla |
| 投稿网站 | http://jla.peerx-press.org/cgi-bin/main.plex |
| 通讯地址 | Laser Inst Amer, 13501 Ingenuity Dr, Suite 128, Orlando, Usa, Fl, 32826 |
| 所属国家 | United States |
| 出版周期 | Quarterly |
| 创办年份 | 1988年 |
| 年文章数 | 101 |
| 是否开放访问 | 不开放访问 |
| PubMed链接 | http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=1042-346X%5BISSN%5D |
| 平均审稿速度 | 网友分享经验：>12周，或约稿 |
| 平均录用比例 | 网友分享经验：容易 |
| 历年影响因子 |