期刊：J Micro-nanolith Mem
| 期刊ISSN | 1932-5150 |
| 期刊全称 | Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems |
| 期刊缩写 | J Micro-nanolith Mem |
| 影响因子 | 1.350 |
| 自 引 率 | 12.80% |
| SCI 收录情况 | SCIE收录; |
| ESI 学科分类 | 工程科学（Engineering） |
| 中科院大类分区 | 工程技术：4区 |
| 中科院小类分区 | 工程：电子与电气 4区 材料科学：综合 4区 纳米科技 4区 光学 4区 |
| 是否Top期刊 | 否 |
| 是否综述期刊 | 否 |
| 官方网站 | http://www.spie.org/publications/journals/journal-of-micro/nanolithography-mems-and-moems |
| 投稿网站 | https://jm3.msubmit.net/cgi-bin/main.plex |
| 通讯地址 | Spie-soc Photoptical Instrumentation Engineers, 1000 20th St, Po Box 10, Bellingham, Usa, Wa, 98225 |
| 所属国家 | United States |
| 出版周期 | Quarterly |
| 创办年份 | 2007年 |
| 年文章数 | 95 |
| 是否开放访问 | 不开放访问 |
| PubMed链接 | http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=1932-5150%5BISSN%5D |
| 平均审稿速度 | 网友分享经验：较慢,6-12周 |
| 平均录用比例 | 网友分享经验：容易 |
| 历年影响因子 |