期刊:Plasma Chem Plasma P
期刊ISSN | 0272-4324 |
期刊全称 | Plasma Chemistry And Plasma Processing |
期刊缩写 | Plasma Chem Plasma P |
影响因子 | 2.355 |
自 引 率 | 14.00% |
SCI 收录情况 | SCI收录; SCIE收录; |
ESI 学科分类 | 化学(Chemistry) |
中科院大类分区 | 工程技术:3区 |
中科院小类分区 | 工程:化工 3区 物理:应用 3区 物理:流体与等离子体 3区 |
是否Top期刊 | 否 |
是否综述期刊 | 否 |
官方网站 | http://www.springer.com/physics/classical+continuum+physics/journal/11090 |
投稿网站 | http://mc.manuscriptcentral.com/pcpp |
通讯地址 | Springer, 233 Spring St, New York, Usa, Ny, 10013 |
所属国家 | United States |
出版周期 | Quarterly |
创办年份 | 1981年 |
年文章数 | 94 |
是否开放访问 | 不开放访问 |
PubMed链接 | http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=0272-4324%5BISSN%5D |
平均审稿速度 | 网友分享经验:较慢,6-12周 |
平均录用比例 | 网友分享经验:较易 |
历年影响因子 |