期刊：Plasma Devices Oper
| 期刊ISSN | 1051-9998 |
| 期刊全称 | Plasma Devices And Operations |
| 期刊缩写 | Plasma Devices Oper |
| 影响因子 | 0.000 |
| 自 引 率 | 100.00% |
| SCI 收录情况 | |
| ESI 学科分类 | 暂无分类（No catagory） |
| 中科院大类分区 | 暂无分类：0区 |
| 中科院小类分区 | |
| 是否Top期刊 | 否 |
| 是否综述期刊 | 否 |
| 官方网站 | http://www.tandfonline.com/toc/gpdo20/current |
| 投稿网站 | |
| 通讯地址 | Taylor & Francis Ltd, 4 Park Square, Milton Park, Abingdon, England, Oxon, Ox14 4rn |
| 所属国家 | England |
| 出版周期 | Quarterly |
| 创办年份 | 1990年 |
| 年文章数 | 0 |
| 是否开放访问 | 不开放访问 |
| PubMed链接 | http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=1051-9998%5BISSN%5D |
| 平均审稿速度 | 网友分享经验： |
| 平均录用比例 | 网友分享经验：容易 |
| 历年影响因子 |