期刊：Int J Appl Electrom
| 期刊ISSN | 1383-5416 |
| 期刊全称 | International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics |
| 期刊缩写 | Int J Appl Electrom |
| 影响因子 | 0.769 |
| 自 引 率 | 47.90% |
| SCI 收录情况 | SCIE收录; |
| ESI 学科分类 | 工程科学（Engineering） |
| 中科院大类分区 | 物理：4区 |
| 中科院小类分区 | 工程：电子与电气 4区 力学 4区 物理：应用 4区 |
| 是否Top期刊 | 否 |
| 是否综述期刊 | 否 |
| 官方网站 | http://www.iospress.nl/journal/international-journal-of-applied-electromagnetics-and-mechanics/ |
| 投稿网站 | http://www.iospress.nl/journal/international-journal-of-applied-electromagnetics-and-mechanics/ |
| 通讯地址 | Ios Press, Nieuwe Hemweg 6b, Amsterdam, Netherlands, 1013 Bg |
| 所属国家 | Netherlands |
| 出版周期 | Quarterly |
| 创办年份 | 0年 |
| 年文章数 | 313 |
| 是否开放访问 | 不开放访问 |
| PubMed链接 | http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=1383-5416%5BISSN%5D |
| 平均审稿速度 | 网友分享经验：平均3.0个月 |
| 平均录用比例 | 网友分享经验：容易 |
| 历年影响因子 |